RFスパッタ装置 MSP-50RF

概要装置

この装置はMSP-40Tをベースモデルとした多目的研究開発用途向けRFスパッタ装置です。
DCマグネトロンスパッタでは不可能な、絶縁物や酸化物のスパッタが可能です。様々な種類の物質を試すことができ、研究の幅を広げます。

電気回路基板の試作、半導体プロセスの研究、金属膜の酸化防止等、様々な実験、評価、研究開発に応用可能です。RF電源は最大５０W以下で、高周波電源の届け出の必要はありません。

卓上型で省スペースに設置可能です。
専用のラックもオプションで御用意が可能です。

ターゲット材料は別途ご注文ください。
据付取扱説明が必要となる装置です。

必須ユーティリティ
冷却水循環装置とアルゴンガスが別途必要となります。
詳細は下記のコンテンツをご参照ください。

カタログPDF

MSP-50RF　装置の仕様

項目	仕様
電源	ＡＣ１００V（単相１００V１５A）アース付き３Pプラグ使用
装置サイズ	幅５０４mmｘ奥行き４８６ｍｍｘ高さ４９７ｍｍ重量３６ｋｇ
ＲＦ電源サイズ	幅２５０ｍｍ、奥行き３００ｍｍ、高さ１４０ｍｍ
真空排気系	ターボポンプ（ＴＭＰ）：６７ℓ／ｓｅｃ（装置内蔵チャンバー直結）ダイヤフラムポンプ（ＤＦＰ）：１６．７ℓ／ｍｉｎ（装置外置き・チューブ接続・重量６．５ｋｇ）
到達真空度	１ｘ１０^-4Ｐａ以下
真空度測定	フルレンジ真空計
安全対策	系統別サーキットブレーカ、プログラム制御によるインターロック
操作パネル	タッチパネル式操作ディスプレイ搭載
ＲＦ電源	別置きＲＦ電源　最大出力５０Ｗ　本体装置より電源供給５０Ｗ出力のため、高周波設備利用申請の提出が不要です
タイマー	０～９９９ｍｉｎ（１分単位で設定可能）
チャンバーサイズ	内径１７８ｍｍ、深さ１５９ｍｍ　ステンレスチャンバー
試料ステージサイズ	直径５０ｍｍ、アノード電極分離フローティング方式
最大試料サイズ	直径５０ｍｍ、高さ３０ｍｍ程度以内
電極―試料台間隔	１１５ｍｍ、９５ｍｍ、７０ｍｍ　各試料台付属
ターゲットサイズ	直径２５．４ｍｍ、厚さ３ｍｍ（バッキングプレートを含む）
ターゲット種類	Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉO２、等 ※Ｆｅ，Ｃｏ等の強磁性物質は利用不可
雰囲気ガス導入	マスフローコントローラによるガス流量自動調整。アルゴンガス。０．０８～０．１MPa。φ１／４インチ接続
ターゲット冷却機構	水冷式ターゲット電極機構。流量スイッチインターロック。流量１ℓ／ｍｉｎ以上。Φ６ｍｍチューブ接続。

MSP-50RF　必須ユーティリティについて

本装置はアルゴンガスとターゲット冷却用の冷却水循環装置が必須となります。設備については事前にご確認をお願いいたします。

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MSP-50RF　ターゲットについて

装置本体のほかにターゲット材料が必要となります。別途ご注文くださいますようお願いいたします。
装置には厚さ３ｍｍ用のターゲット押さえが標準付属いたします。
DCマグネトロンスパッタでは不可能な、絶縁物や酸化物のスパッタが可能です。様々な種類の物質を試すことができ、研究の幅を広げます。

MSP-50RF　オプションについて

お問い合わせ

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