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真空蒸着装置

真空蒸着装置について

真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。
ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成膜することが一般的で、不純物の無い膜を作ることが可能です。
真空デバイスの蒸着装置は、シーケンスプログラム制御された操作で簡単に高真空領域の環境を作ることができ、研究開発に最適な小型で安価なラインナップが特徴です。大気圧から10x10⁻⁴Pa領域までの到達時間はおよそ5分間。従来の古いシステムから切り替えることで研究開発のスピードを加速させます。

卓上サイズの小型高真空蒸着装置 VE-2013


小型 TMP+RP の排気系により清浄高真空の蒸着装置を低価格で提供。
複雑な排気操作を廃し、タッチパネルスイッチのON/OFFのみの全自動制御です。
小型ターボ分子ポンプ内蔵によりコンパクトなサイズを実現(RPは外置き)。卓上の小さなスペースで活躍いたします。
タングステンバスケットの使用で金・アルミニウム・クロム・銀などの蒸着が出来ます。カーボン蒸着は専用カーボン(SLC-30)を使用して蒸着するクランプ蒸着銃タイプを使用。
電子顕微鏡試料の前処理や、金、アルミ、クロムなどの薄膜作成に特化したモデルになっております。

VE-2013 WEBページ

柔軟なカスタマイズに対応可能な据え置き型モデル VE-2030


VE-2030 には多彩な付属装置(オプション)が用意してあります。ご研究の目的に応じたカスタマイズにも柔軟に対応が可能です。ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプを内蔵しております。
タングステンバスケット蒸着をはじめ、Moボート、Kセル加熱、EBガン、カーボンロッドの蒸着など、幅広く対応しております。

VE-2030 WEBページ

蒸着装置オプションについて

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