真空デバイス
(株)真空デバイス
真空装置・電子顕微鏡周辺機器の
設計・製造・要望に応える改造を
低価格短納期で行います。



VES−10型 マルチ製膜装置

  • 親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化した小型卓上装置。
  • シャーペンの替え芯を蒸着。
  • マグネトロンターゲットで低ダメージスパッタ。
  • 疎水性試料を簡単親水処理。
  • 標準ターゲット金属は金パラジウム。
  • 排気系は床置きRP。
  • イオンスパッタと親水処理の操作は全自動。排気開始からコーティング終了まで自動で行なえます。
  • 機能切替はボタン一つで楽々。


製品仕様


ベース本体
  • 1.電源:AC100V 15A(単相)
  • 2.装置サイズ:W400mm×D300mm×H460mm 20Kg
  • 3.排気系:RP50L/min
  • 4.真空計:ピラニゲージ
  • 5.到達真空度:1Pa
  • 6安全対策:系統別ヒューズ採用

蒸着
  • 1.蒸着電極:シャープペンシル芯専用カーボン蒸着電極専用

イオンスパッタ
  • 1.ターゲット:マグネトロン平行平板方式φ50mm (Au,Au-Pd,Pt,Pt-Pd)
  • 2.試料台:φ50mm アノード電極分離フローティング方式
  • 3.試料-ターゲット間:25〜35mm
  • 4.タイマー:電子タイマー 目盛0〜1.2,3,12,30 単位sec,min,hr 切替可能

親水処理
  • 1.チャンバー:スイッチ切替でイオンスパッタと共用
  • 2.モード:SOFT/HARD選択

オプション
  • 1.カーボン蒸着:4極2対電極(100nm以上の膜圧を可能にします。)