ＭＳＰ－１２インチ／１２Ｓ型　マグネトロンスパッタ装置

	ＭＳＰ－１２インチ型マグネトロンスパッタ装置マグネトロンターゲット電極で、φ300ｍｍサイズに対応する大面積試料ステージを搭載。膜厚ムラは10%以内、ステージ全域を有効に使えます。コーティング電圧500V以下で、イオン衝撃によるダメージを軽減。標準ターゲット金属は白金(Pt)。排気系はＲＰ１００Ｌ/min使用。クリンルーム用にスクロールポンプ（オプション）への変更が可能です。 AUTOモード搭載。排気開始から脱ガス・雰囲気ガス導入・コーティング終了まで自動で行なえます。試料台には取り出し易い引出式試料ステージを採用。
MSP-12inの特長シリコン基板の大型化にお応えする300mm径の大面積試料ステージをマグネトロンターゲット電極で実現しました。試料ステージの大型化で、12インチウェーハや多数のSEM用試料を同時にコーティングすることが可能で、検査作業を効率化します。マグネトロン型電極は、ターゲット金属の表面に沿って平行な磁場を形成し、プラズマ放電によって発生する電子をこの磁場に閉じこめ、雰囲気ガスのプラズマ化を促進します。 MSP-12inではさらに、複数の同心円状のヨーク磁極間にターゲット金属を配置して、大きなターゲット面でも磁石とヨーク磁極の間で放射状に均一な磁場をつくるようにしています。 MSP-12inのマグネトロンターゲット電極は、雰囲気ガスのプラズマ化を広い面積にわたり均一に促進し、ステージ全面を一様な厚さでコーティングします。このため、ステージのどの位置でもSEM観察に必要なPtのコーティング厚さが得られます。中心から外周に向かい磁石の数と磁極リングの径を変えて磁場の強さを制御し、全面を一様な速さでコーティングします。 MSP-12inで採用するマグネトロン方式は、磁場の中に捕捉された電子が雰囲気ガスのプラズマ化を促進するため、低電圧でのコーティングが可能です。またプラズマ領域は電極の近くに集中しているため試料へのイオン衝撃が少なく、流入電子による発熱も抑えられ試料のダメージを回避しています。 MSP-12inのマグネトロンターゲット電極にはSEMの高解像度観察に適したPtを標準装着。2次電子の発生効率が高く、微粒子コーティングが可能です。オプションでPt-Pd、Au、Au-Pd、Agにも対応します。 Agターゲットにすれば、透明な試料表面への鏡面効果が得られます。光学顕微鏡用に大型サンプルの表面処理を行う際に使用可能。製品仕様 1.コーティング室サイズ：内径 330mm、高さ 80mm 2.ターゲット電極サイズ：直径 300mm 3.試料ステージサイズ：直径 300mm 4.ターゲット：厚さ0.1mm Pt（Option：Au・Au-Pd・Pt-Pd・Ag） 5.コーティング速度：5nm/min. at 200mA　　 20nm/min. at 500mA 6.高圧電源：DC700Vmax.　（スライダックにて0Vから調節可能） 7.最高放電電流対印加電圧：500mA/510V 8.推奨使用電流範囲：200mA/390V～500mA/510V 9.電源仕様：AC100V､15A　アース線付き3芯コード 10.外形寸法：W449mm×H427mm×D439mm 11.装置重量：30kg 12.排気系：床置きRP（100L/min）、オプションにてスクロールポンプへの変更可能 13.真空度監視：ピラニゲージにて0.1Pa(7.5×10^-4Torr)まで指示 14.到達真空度：0.5Pa以下 15.雰囲気ガス：空気（アルゴンガス接続可能）。導入ガス圧力：0.03MPa前後で使用 16.試料－ステージ間隔：40mm 17.ターゲット使用限度回数：1000～3000回
応用サンプル写真