ＨＰＣ－３０Ｗ型　オスミウムコーター

	ＨＰＣ－３０Ｗ型　オスミウムコーターホローカソードプラズマＣＶＤＳＥＭで観察する試料のチャージ防止にはオスミウムコーティング！！研究者向けの微調整を可能にしたオスミウムコーティング専用機です。複雑な形状の生物や無機化合物などの試料でも360°一様にコーティング可能。どのような試料（例：球体）にも極めて薄いコーティングで導電性を与えることができます。披着したオスミウム粒子は金や白金のように結晶化による粒子成長がなく、超高倍率観察（×800ｋ）にも十分満足な画質が得られます。真空チャンバー内部で四酸化オスミウムのアンプルを割断可能な機構（Option）を追加可能。四酸化オスミウムを大気に晒す不安が解消されます。 φ135ｍｍサイズの試料までコーティング可能な大型ステージ搭載。ホローカソードによる低電圧放電プラズマコーターです。500V以下でもコーティング可能です。繊細な試料もイオンダメージがありません。オスミウムガスはコーティング中のみ直接ホローカソード内に注入します。オスミウムの消費量が少なく未反応ガスの排出が無いので安全に使用できます。
用途超高分解能ＳＥＭ用のメタルコーティング装置です。プラズマ重合を利用して試料表面に非晶質金属オスミウム膜をコートします。方法ダイオード放電の陰極をホローカソードにすることで500V以下の低電圧放電で四酸化オスミウムガスをプラズマ化し、オスミウムイオンを試料表面に反応させて金属オスミウム膜を拆出被覆します。特長注入されるオスミウムガスは極めて僅かです。この僅かな量を効率良くイオン化するため予め放電を行っているホローカソード内に直接オスミウムガスを注入します。注入されたオスミウムガスは、ほぼ全量がイオン化し消費されます。試料のサイズはホローカソード内に入る大きさであれば全面が均一にコーティングされます。製品仕様試料室サイズ＝内径150mm×深さ80mm。厚さ8mm硬質ガラス製。ホローカソードサイズ＝内径135mm×深さ42mm。試料台サイズ＝直径125mm。処理可能試料サイズ＝直径125mm×高さ45mm。高圧発生装置＝DC0～900V、50mA　MAX。真空排気系＝全電磁バルブ操作。雰囲気圧力調節回路付属。ロータリーポンプ＝50L/min　フッ素油使用。活性炭トラップ付。試料室到達真空度＝1Pa以下。真空度監視＝ピラニゲージ。ガス注入系統＝オスミウムガスと雰囲気ガスの２系統構成。導入ガス＝アルゴンまたは空気、ニードル＆電磁バルブ調整。0.08MPaで使用。四酸化オスミウム使用量＝1ｇアンプル1本で約200回のコーティングが可能。装置サイズ＝W410mm×D320mm×H365mm 装置重さ＝本体20kg、RP11Kg、卓上型。電源＝単層AC100V,15A アース線付３芯プラグ使用
オプション・その他資料オスミウム割断機構オスミウムアンプルを真空室内で簡単に割断し、以後一切取り出す必要性が無い機構を開発いたしました。オスミウム割断機構に関するページオスミウム割断機構　製品カタログ排ガス中のオスミウム関する測定資料