ＨＰＣ－１ＳＷ型　オスミウムコーター

	ＨＰＣ－１ＳＷ型　オスミウムコーターホローカソードプラズマＣＶＤＳＥＭで観察する試料のチャージ防止にはオスミウムコーティング！！簡易操作を目標にしたオスミウムコーティング専用機です。複雑な形状の生物や無機化合物などの試料でも360°一様にコーティング可能。どのような試料にも極めて薄いコーティングで導電性を与えることができます。披着したオスミウム粒子は金や白金のように結晶化による粒子成長がなく、超高倍率観察（×800ｋ）にも十分満足な画質が得られます。 φ100サイズの試料までコーティング可能な大型ステージ搭載。真空チャンバー内部で四酸化オスミウムのアンプルを割断可能な機構（Option）を追加可能。四酸化オスミウムを大気に晒す不安が解消されます。 HPC専用の真空ポンプと排出オスミウムトラップ付属。
特長ホローカソード試料台による低電圧放電CVD法（特許出願中）を採用、試料にやさしく金属オスミウムをコーティングします。ホローカソード円筒内全体にオスミウムプラズマイオンが発生しますので試料の大きさ、高さには制限がありません。プラズマ放電に最適な真空度に達してから、コーティング中のみオスミウムガスを注入するので結晶オスミウムの消費を節約できます。（1ｇ使用時200回程度）コーティング操作はオートとマニュアルを選択可能。オート使用時はSEMのスタブに取り付けた試料をホローカソード内に置き、EVACスイッチをONにするだけです。危険な未反応オスミウムガスは排出オスミウムトラップ（活性炭）で取り除き大気汚染は在りません。活性炭の吸着限界は排出口で常時モニタしています。製品仕様試料室サイズ＝内径120mm×深さ90mm。硬質ガラス製。アノード＝直径110mm。カソード＝ホローカソード、内径105mm×深さ37mm。試料ステージ＝直径100mm、ホローカソード内に絶縁設置。処理可能試料サイズ＝直径100mm×試料台を含めた高さ45mm。高圧発生装置＝DC800V 固定、(負荷電流max25mA)　電流計指示。真空排気計＝50L/min フッ素オイル使用ロータリポンプ、大口径電磁バブルで接続。排出オスミウムガストラップ付属。到達真空度＝RP能力1Pa以下、ニードルバルブで6～8Paに設定。ピラニーゲージで真空度指示。オスミウムガス注入＝真空度シグナルにより高圧印加と連動注入。導入ガス＝アルゴンまたは空気、ニードル＆電磁バルブ調整。0.08MPaで使用。四酸化オスミウム使用量＝1ｇアンプル1本で約200回のコーティングが可能。装置サイズ；本体＝幅200mm×奥行き330mm×高さ250＋130＝380mm、13.5kg。RP＝幅156mm×長さ345mm×高さ200mm、11Kg。設置面積＝350mm×700mm、卓上型。電源＝AC100V,15A単相、アース線付3芯プラグ使用。
オプション・その他資料オスミウム割断機構オスミウムアンプルを真空室内で簡単に割断し、以後一切取り出す必要性が無い機構を開発いたしました。オスミウム割断機構に関するページオスミウム割断機構　製品カタログ排ガス中のオスミウム関する測定資料